随着科技越来越发达，曾经的我们在科技方面上的技术在某一些程度上可以说是处于被动的状态，但我们始终没放弃打造属于自身个人的国产科技。

  其中光刻机技术就在今年取得重大突破，换句话来说我国有的国之重器在原基础上打破了被动的局势，更使得我们自己的科技领域得到更大的空间。

  不仅如此在电子科技类产品方面上光刻机的作用也是应该十分普遍的，其中的精度就达到了8纳米的范围内，这一成果能够说是在原有设备上获得全新的升级。

  或许会有人不少人问，光刻机的突破与我们普通人又有什么关联呢？实际上这方面的关系还是有的，就好比我们所示有的手机或者是电脑等等一些电子产品。

  里面最核心的零件就是芯片，而光刻机就是制作半导体芯片的，在这次技术突破重金氟化氩光刻机方面上的光源就达到了193纳米范围，可能会有人不了解这一个光源的作用。

  光源是光刻机里面很重要的一部分，它直接关联着光刻机工作时所能持有的清晰度以及精准度工作等等，简单来说就像我们手机的摄像头一样，在对着天空或者较远的地方进行拍照和录像时，会发现随着距离的变化可见的清晰度以及焦虑都可能会发生变化。

  而氟化氩光刻机的分辨率也是达到了65nm，可别小看这小小的65nm，它可是有着非常大的作用，在工作时可是能清楚的看行一些非常小线路或者其他构架，直白的来说我们用了这一项技术可完全自己打造出一枚小小的芯片。

  表面看似一个非常小的芯片，但实际上里却包含着很多条线路，然而这一点我们的肉眼很难看得见，至于剩下的8nm精准度更不用隔过多的解释了，在机器雕刻的过程中如果精准度达不到一定的范围，那么最后可能没办法打造成品。

  这种技术对我们来说是有着非常大的意义，如果想要创造出更高的的科学技术产品，以及小巧玲珑的完美产品那么芯片的技术就需要更高的水平。

  当我们这一项技术获得再次创新之后，在国外社交平台上也有不少国家的网友对此纷纷进行赞叹不已，我国在很多领域上起初的困难是非常大的，尽管面临种种不同的挑战，我们从始至终未放弃，最终一个又一个被攻破。

  而在国外人的眼里，我们创造了一个接一个的奇迹，完成许多很多人都认为不可能的事情，然而还有部分人却对在得知我们突破这些重大技术之后，却变得沉默寡言了起来。

  令他们担心的并不是我们在某些领域方面取得优异的成果，或是说他们担心的却是自己的利益，就单单在光刻机方面上，美国号称世界第一打国的他们却会在某些方面对我进行打击或者施压等等。

  不仅如此还有别的的人紧随其后，就好比荷兰在24年的九月份他们就又一次对光刻机出口的管控进行了加强，而阿斯麦公司想要我们合作那么他们就得向他们的政府几学年申请才行。

  单凭这一点就显而易见这是在对咱们进行施压，就是在这样的局势复杂的情况下我们自己研发出了新的技术，这他们对此无话可说，更是一次强力的反击。

  这种打压对我们而言也不是一时半会了，在去年的时候我们就获得了他们提出的一些相关许可证，虽然阿斯麦公司可以卖给我们相关的产品，但是也只是TWINSCAN NXT：2000i类的。

  不久他们就设下新的限制和规定，这让我们在光刻机领域方面也是受到了一定的影响，甚至他们还表示之后不再与我们合作等等。

  与其求人倒不如我们自己打造，说到这里可能会有人觉得诧异，为什么一定要购买国外的设备？其实在某些方面上部分打造高端或者核心的技术设备是必不可少的，就好比我们用一项很强的技术打造了一个高端的设备。

  向他国售卖那么我们会把核心技术卖给他们吗？当然不会就算是他国亦是如此，所以与其被别人卡我们的脖子，还不如自己打造自己的铠甲。

  虽然我们在这方面技术有所突破，但是想要打造更高端的设备还是有着很长道道路要走，不过唯一能确定就是我国决定不会放弃打造我们自己的国产科技。

  光刻机是一种很复杂的项目，就算是天才也得思考一番，其中光刻机不单单是用来打造芯片的，简单来说能够理解成一种复刻的功能，不过这里并不是指他是市面上那种普通雕刻机或者激光雕刻等等设备。

  这种光刻机在材料方面没有限制的，看似说的过于有些海口，但实际上它的原理就和你拿手机进行拍照是一样的，而美国曾经通过这样的方式复刻出了电路，从而电路芯片也问世了。

  如果想要打造芯片，那么所有的材料同样是需要的，大一点的芯片自然好做，可用起来的话那么设备的体型就得扩大，这样一来岂不是非常不方便，不仅如此就连所剩下的部分材料有很大的可能性无法使用。

  为了节约和不浪费材料，那么芯片做小一点不仅使用起来更便捷而且应用的领域也是很广泛的，而越是小芯片，光刻机设备和创造的技术就得得到提升，能想象一下一根头发丝般的线nm范围内排列是有多么的难。

  甚至比头发丝还要细小，先不说用机器来完成，就算拿着高度数的放大镜手工进行那么难度也是相当大的稍有不注意就可能面临全盘结束。

  而光刻机在工作时，所将那些非常细小的线路或者线条放在固定的位置上，还需要清晰的光源才行，不仅如此这些线路的大小粗细在不同的情况下，也是有一定关系，那就是光波的长度。

  大约在一般的长短，假如光刻机的光波是在13.5nm，那么刻制10nm以下的线nm就有很大的可能性成为废品。

  不仅如此这方面的价格也同样是不菲的，一台既稳定功率又大的设备是的价格就大约在三千万人民币左右，这还算得上是比较好一点的了，要是按照荷兰ASML公司来算的话，那么光一台就将近一个亿的价格。

  关键这一个亿还是美元，对我们来说代价实在是很大，之所以他们能卖这么贵，其中的技术也有很大的原因，而且他们还是垄断极紫外光刻机行业，所以我们想打造高端，更稳定，以及更精准巧妙的光刻机还是有着非常大的难度。

  或许会经常关注这方面的人会想到六七年前的有关我们的国产22nm的光刻机相关的的报道，实际上并非是这样的在2018年就有相关媒体对此说出了其中的差距。

  在中科院里面所研发的光刻机并不能广阔芯片或者CPU等等，在二十多年前的国际上就有相关的光刻法，又称surfaceplasma，SP在03年的时候，中科院就有团队开始研究，在他们的日复一日的努力下最终也是取得了一个不错的成果。

  但是他们这种研究也就是SP，对20nm，30nm等等几十纳米芯片是无法用来光刻的，简单来说SP这种设备是不能光刻出这些小型芯片。

  直白的讲SP就好比一个金属片和一个不是金属片的其他材质来结合或者对比等接触，那么在电子设备上所显示的电子信号，同时进行下一到工序用光投影来让这些信号进行震动，也就是形成的电磁波，最终才能进行下一步光刻的。

  美中不足的是这种电磁波信号比较弱，就好比说手机的信号一样在某些地方信号时有时无的状态，或者说一个玩家在玩游戏的时候发现网络非常卡顿，从而造成一定的延迟一样。

  而这种SP光刻机却是和ASML的光刻机存在一定的差距，还可以说两者就不在一个乘次方面内。

  不过在光刻机的领域上，我们曾经也是被多次卡脖子，但最终在许多人的坚持付出下我们也是打破那些想要卡我们脖子的人，其中光刻胶国产也是很重要的一环，不管是光刻机还是光刻胶。

  我们都必须打造出100%属于自身个人的设备科技，让那些想要别有用心的人无处遁形，或许在言语上部分东西我们不能做出强力的反击，但在一些领域上我们最好的反击就是使用自己的成果。

  环球时报 【2023-09-01】《光刻机巨头：已获许可，仍可向中国出口》

  观察者网 【2024-09-14】《工信部推广国产氟化氩光刻机：分辨率≤65nm》

  观察者网 【2024-09-15】《工信部推广国产氟化氩光刻机 核心技术新突破》

  大河网 【2022-02-22】《解决“卡脖子”问题 国产光刻机项目用了他们的光源》

  澎湃新闻 【2023-02-02】《浪尖2023｜傅志伟：光刻胶的国产替代比光刻机还紧急》

  人民日报 【2018-12-03】《科技日报：国产22纳米光刻机治不了咱们的“芯”病！》

  新华社客户端【2021-01-09】《国产光刻机！10亿资金涌入，股价直线封涨停，上市公司已发声》

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