【导语】光刻机是芯片制作的完整过程中的重要机器，现在世界上最顶尖的光刻机仍旧是荷兰的ASML掌握，那么目前我国光刻机现在属于什么水平？价格大概是多少钱一台？详细情况一起去了解。

  中国最高的光刻机技术仍然是上海微电子研究所的90nm技术。其SMEE200系列光刻机、300系列光刻机、500系列光刻机、600系列光刻机只能达到90nm技术水平。

  1、光刻机是生产大型集成电路的核心设备。制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数制造商掌握。因此，光刻机价格昂贵，通常为3000万至5亿美元。

  2、此前，国内顶级规模的半导体企业中芯国际曾发布了重要的公告，公司花费12亿美元购买荷兰阿斯麦光刻机。

  1、重要地位：光刻机又称掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心设备。它采用类似于照片打印的技术，通过光的曝光，在硅片上上的精细图形打印到硅片上。光刻机是半导体行业最关键的设备。光刻技术决定了半导体线的线宽和芯片的性能和功耗。

  光刻机行业的上游最重要的包含光刻机的核心部件和配套设施，下游大多数都用在半导体/集成电路的制造和包装。

  2、行业发展：从政策环境的角度来看，中国更加重视光刻机行业。大多数表现在整个IC产业链企业的政策优惠待遇与半导体设备行业的相关规划和推广上。大多数表现在资金补贴、人才教育培训、进出口、投融资等方面。

  在各项政策中，《大型集成电路制造设备及成套工艺》项目(02专项)更为突出，以专项形式组织了一批国内光刻机公司进行一系列重点工艺和技术探讨研究，有效促进了我国光刻机行业的发展。

  3、技术发展：当前，EUV光刻机设备完全被ASML垄断，ASMLEUV光刻机市场占有率达到100%。技术发展：光刻工艺流程多，占晶圆制造耗时的40%-50%，光刻技术也在持续不断的发展。自光刻机问世以来，光刻设备做了四次重大创新。光刻设备使用的光源也从最初的g-line和i-line经历了KrF和ArF发展到今天的EUV。

  我国光刻机与世界领先水平的差距，主要是制造工艺的差距。虽然，武汉光电研究中心已经突破了9nm光刻技术，但是在关键零部件、材料等方面仍旧没办法满足量产的需求。这也印证了一句话“自己有才是真的，只有你突破了技术，就没有人能卡住你的脖子”。也代表了中国企业在半导体行业发展的决心，期望早日突破光刻机技术难关，迎来中国芯。

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